Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Контактно-барьерные структуры субмикронной электроники
Контактно-барьерные структуры субмикронной электроники
Книга
Автор:
Контактно-барьерные структуры субмикронной электроники
Издательство: Бестпринт, 2021 г.
ISBN 9789857267101
Автор:
Контактно-барьерные структуры субмикронной электроники
Издательство: Бестпринт, 2021 г.
ISBN 9789857267101
Книга
621.3 К65
Контактно-барьерные структуры субмикронной электроники / [А. П. Достанко и др.]; под редакцией А. П. Достанко и В. Л. Ланина; Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники. – Минск: Бестпринт, 2021. – 269 с.: ил., цв. ил., табл., схемы. - Содерж.: Формирование трехмерных токопроводящих микроструктур методом нестационарного электролиза (Кузьмар И.И., Богуш Н.В., Кушнер Л.К., ГульпаД.В.). Формирование прозрачных контактов и диэлектрических слоев с низкой диэлектрической проницаемостью в микроэлектронных структурах (Телеш Е.В., Достанко А.П.). Формирование контактно-барьерных структур кремниевых диодов Шоттки диффузионным синтезом силицидов быстрой термообработкой (Соловьёв Я.А.). Электрометрические методы контроля параметров барьерных полупроводниковых структур (Петлицкий А .Н .). Наноразмерные диэлектрические структуры в субмикронной микроэлектронике (Ковальчук Н.С.). СВЧ разрядная технологическая система для межоперационной очистки субмикронных структур изделий электронной техники (Бордусов С.В., Мадвейко С.И., Тихон О.И.). Формирование шариковых выводов припоя лазерным нагревом при сборке 3Dэлектронных модулей (Лапин В.Л., Петухов И.Б.). Суперконденсаторные структуры для накопителей энергии в составе автономной фотоэлектрической системы (Василевич В.П., Збышинская М.Е.). - ISBN 9789857267101: 72.00.
В издании рассмотрены и обобщены результаты исследований и разработок в области формирования контактно-барьерных структур в изделиях субмикронной электроники и оборудования для микроэлектронного производства и диагностики структур полупроводниковой микроэлектроники.
ГРНТИ 47.13.11
621.382.049.77-027.3
общий = ПОЛУПРОВОДНИКОВАЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
общий = СУБМИКРОННЫЕ СТРУКТУРЫ
общий = СУБМИКРОННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
общий = ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЕ ОБОРУДОВАНИЕ
общий = МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
общий = ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ СТРУКТУРЫ
общий = МИКРОСТРУКТУРЫ (физ.)
общий = ТРЕХМЕРНЫЕ СТРУКТУРЫ
общий = КОНТАКТНОЕ ВЗАИМОДЕЙСТВИЕ (физ.)
общий = ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ КОНТАКТЫ
общий = ДИЭЛЕКТРИКИ
общий = ТЕХНОЛОГИЯ ПРОИЗВОДСТВА
общий = ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ
общий = ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКАЯ ОБРАБОТКА
общий = ТЕРМИЧЕСКАЯ ОБРАБОТКА
общий = ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
общий = ЛАЗЕРНАЯ ОБРАБОТКА
общий = ТЕХНИЧЕСКАЯ ДИАГНОСТИКА
общий = ЭЛЕКТРОМЕТРИЧЕСКИЕ МЕТОДЫ
621.3 К65
Контактно-барьерные структуры субмикронной электроники / [А. П. Достанко и др.]; под редакцией А. П. Достанко и В. Л. Ланина; Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники. – Минск: Бестпринт, 2021. – 269 с.: ил., цв. ил., табл., схемы. - Содерж.: Формирование трехмерных токопроводящих микроструктур методом нестационарного электролиза (Кузьмар И.И., Богуш Н.В., Кушнер Л.К., ГульпаД.В.). Формирование прозрачных контактов и диэлектрических слоев с низкой диэлектрической проницаемостью в микроэлектронных структурах (Телеш Е.В., Достанко А.П.). Формирование контактно-барьерных структур кремниевых диодов Шоттки диффузионным синтезом силицидов быстрой термообработкой (Соловьёв Я.А.). Электрометрические методы контроля параметров барьерных полупроводниковых структур (Петлицкий А .Н .). Наноразмерные диэлектрические структуры в субмикронной микроэлектронике (Ковальчук Н.С.). СВЧ разрядная технологическая система для межоперационной очистки субмикронных структур изделий электронной техники (Бордусов С.В., Мадвейко С.И., Тихон О.И.). Формирование шариковых выводов припоя лазерным нагревом при сборке 3Dэлектронных модулей (Лапин В.Л., Петухов И.Б.). Суперконденсаторные структуры для накопителей энергии в составе автономной фотоэлектрической системы (Василевич В.П., Збышинская М.Е.). - ISBN 9789857267101: 72.00.
В издании рассмотрены и обобщены результаты исследований и разработок в области формирования контактно-барьерных структур в изделиях субмикронной электроники и оборудования для микроэлектронного производства и диагностики структур полупроводниковой микроэлектроники.
ГРНТИ 47.13.11
621.382.049.77-027.3
общий = ПОЛУПРОВОДНИКОВАЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
общий = СУБМИКРОННЫЕ СТРУКТУРЫ
общий = СУБМИКРОННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
общий = ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЕ ОБОРУДОВАНИЕ
общий = МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
общий = ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ СТРУКТУРЫ
общий = МИКРОСТРУКТУРЫ (физ.)
общий = ТРЕХМЕРНЫЕ СТРУКТУРЫ
общий = КОНТАКТНОЕ ВЗАИМОДЕЙСТВИЕ (физ.)
общий = ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ КОНТАКТЫ
общий = ДИЭЛЕКТРИКИ
общий = ТЕХНОЛОГИЯ ПРОИЗВОДСТВА
общий = ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ
общий = ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКАЯ ОБРАБОТКА
общий = ТЕРМИЧЕСКАЯ ОБРАБОТКА
общий = ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
общий = ЛАЗЕРНАЯ ОБРАБОТКА
общий = ТЕХНИЧЕСКАЯ ДИАГНОСТИКА
общий = ЭЛЕКТРОМЕТРИЧЕСКИЕ МЕТОДЫ
Филиал | Всего | Доступно для брони | Доступно для выдачи | Бронирование |
---|---|---|---|---|
Выставка новых поступлений | 1 | - | 1 | Недоступно |