Электронный каталог НБ БНТУ

Книга (аналит. описание)

Бринкевич, Д.И.
Индентирование облученных электронами пленок позитивных новолачных фоторезистов на кремнии = Indentation of electron irradiated positive novolac photoresists films on silicon / Д. И. Бринкевич [и др.] // Приборостроение - 2022 = Instrumentation engineering ― 2022: материалы 15-й Международной научно-технической конференции, 16—18 ноября 2022 г., Минск, Республика Беларусь / [редколлегия: О. К. Гусев (председатель) и др.]. – Минск: БНТУ, 2022. – С. 144-145. – Режим доступа : https://rep.bntu.by/handle/data/124453. – На рус. яз.

Методом микроиндентирования исследованы прочностные и адгезионные свойства пленок диазохинон-новолачных позитивных фоторезистов S1813, SPR-700 и ФП9120 толщиной 1,2–1,8 мкм, облученных электронами c энергией 5 МэВ флюенсом 3·1016 см-2. Показано, что при облучении микротвердость фоторезистивных пленк возрастает, причем наиболее существенно в SPR-700.
The strength and adhesive properties of films of diazoquinone-novolac positive photoresists S1813, SPR-700 and FP9120 with a thickness of 1.2–1.8 microns irradiated with electrons with an energy of 5 MeV with a fluence of 3ꞏ1016 cm-2 were studied by microindentation. It is shown that under irradiation, the microhardness of photoresistive films increases, and most significantly in SPR-700.

621.383.4

общий = БД Труды научных работников БНТУ : 2022г.
труды сотрудников БНТУ = Приборостроительный факультет : кафедра "Экспериментальная и теоретическая физика"
труды сотрудников БНТУ = Электроника. Радиоэлектроника (труды)
общий = ФОТОРЕЗИСТЫ
общий = АДГЕЗИЯ
общий = ЭЛЕКТРОННОЕ ОБЛУЧЕНИЕ