Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Бурмаков, А.П. - Система стабилизации процесса реактивного магнетронного распыления
Бурмаков, А.П. - Система стабилизации процесса реактивного магнетронного распыления
Статья
Автор: Бурмаков, А.П.
Приборы и методы измерений: Система стабилизации процесса реактивного магнетронного распыления
System of stabilization of reactive magnetron sputtering process
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Бурмаков, А.П.
Приборы и методы измерений: Система стабилизации процесса реактивного магнетронного распыления
System of stabilization of reactive magnetron sputtering process
б.г.
ISBN отсутствует
На полку
Статья
Бурмаков, А.П.
Система стабилизации процесса реактивного магнетронного распыления = System of stabilization of reactive magnetron sputtering process / А. П. Бурмаков, В. Н. Кулешов, А. В. Столяров. – DOI 10.21122/2220-9506-2018-9-2-114-120 // Приборы и методы измерений = Devices and methods of measurements: научно-технический журнал / гл. ред. Олег Константинович Гусев; кол. авт. Министерство образования Республики Беларусь, Белорусский национальный технический университет (Минск). – 2018. – Т.9 N2. – С. 114-120. – Режим доступа : http://rep.bntu.by/handle/data/42004. – На рус. яз.
Пленочные покрытия сегодня позволяют создать большое количество разнообразных структур в электронике, микроэлектронике, оптике, архитектуре и строительстве. Лидирующими технологиями в этой области являются магнетронные технологии осаждения. Проблемой магнетронных методов осаждения является недостаточная воспроизводимость состава и свойств покрытий, обусловленная неустойчивостью параметров магнетронного разряда при наличии реактивного газа. Существуют системы стабилизации, которые позволяют получать воспроизводимые пленки, однако все они имеют ряд недостатков. Целью работы являлась разработка системы стабилизации процесса реактивного магнетронного распыления для технологий нанесения пленочных покрытий, которая устранила бы описанные недостатки существующих систем. Разработанная система стабилизации является модульной и состоит из датчиков, исполнительных устройств, микрокомпьютера с управляющим программным обеспечением, а также устройств, обеспечивающих взаимодействие датчиков и исполнительных устройств с микрокомпьютером. Датчиками системы могут выступать вакуумметры или датчики давления, датчики разрядного тока и напряжения распылителей, оптические датчики регистрации интенсивности спектральных элементов излучения плазмы магнетронного разряда. Исполнительными устройствами системы являются натекатели газов, а также клапана. Количество и тип датчиков и исполнительных устройств определяются исходя из конфигурации технологической установки и требований к проводимым процессам. Управляющее программное обеспечение позволяет гибко настраивать систему (формировать контуры управления, т.е. задавать в соответствие датчики и исполнительные устройства и выбирать алгоритм управления, задавать параметры и режимы работы контуров управления). Таким образом разработанная система является адаптируемой к широкому кругу технологических установок и проводимых процессов. Работоспособность системы была подтверждена при проведении процесса магнетронного осаждения пленки оксида титана. Отклонение уровня сигналов датчиков от требуемых значений при проведении процесса не превышало 3 %, что позволяет получать качественные покрытия.
Film coatings today allow to create large number of diverse structures in electronics, microelectronics, optics, architecture and construction. Leading technologies in this area are magnetron deposition technologies. The problem of magnetron deposition methods is insufficient reproducibility of the composition and properties of coatings, caused by the instability of the parameters of a magnetron discharge in the presence of a reactive gas. There are stabilization systems that make it possible to make reproducible films, but all of them have a number of issues. The aim of the work was to develop a system for stabilizing the reactive magnetron sputtering process for film coating technologies that will eliminate the described shortcomings of existing systems. The developed system of stabilization: automatic and cumulative of sensors, actuators, microcomputer with control software, as well as devices providing interaction of sensors and actuators with a microcomputer. The sensors of the system may be vacuum gauges or pressure sensors, discharge current and voltage sensors of sprays, optical sensors for recording spectral element processes, absorption of a plasma of a magnetron discharge. The actuators of the system are gas flowers, as well as valves. Number and type of sensors and actuators from existing technologies and requirements for ongoing processes. The control software allows to flexibly adjust the system (to form control loops, then to assign sensors and actuators in accordance and to choose control algorithms, to set parameters and operating modes of control loops). Thus, the developed system is adaptable to a wide range of process plants and processes. System operability was confirmed by the process of magnetron deposition of a titanium oxide film. The deviation of the level of the sensor signals from the required values during the process did not exceed 3 %, which allows obtaining high-quality coatings.
621.793.7
общий = БД Техника
общий = МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ
общий = СТАБИЛИЗАЦИИ СИСТЕМЫ
Бурмаков, А.П.
Система стабилизации процесса реактивного магнетронного распыления = System of stabilization of reactive magnetron sputtering process / А. П. Бурмаков, В. Н. Кулешов, А. В. Столяров. – DOI 10.21122/2220-9506-2018-9-2-114-120 // Приборы и методы измерений = Devices and methods of measurements: научно-технический журнал / гл. ред. Олег Константинович Гусев; кол. авт. Министерство образования Республики Беларусь, Белорусский национальный технический университет (Минск). – 2018. – Т.9 N2. – С. 114-120. – Режим доступа : http://rep.bntu.by/handle/data/42004. – На рус. яз.
Пленочные покрытия сегодня позволяют создать большое количество разнообразных структур в электронике, микроэлектронике, оптике, архитектуре и строительстве. Лидирующими технологиями в этой области являются магнетронные технологии осаждения. Проблемой магнетронных методов осаждения является недостаточная воспроизводимость состава и свойств покрытий, обусловленная неустойчивостью параметров магнетронного разряда при наличии реактивного газа. Существуют системы стабилизации, которые позволяют получать воспроизводимые пленки, однако все они имеют ряд недостатков. Целью работы являлась разработка системы стабилизации процесса реактивного магнетронного распыления для технологий нанесения пленочных покрытий, которая устранила бы описанные недостатки существующих систем. Разработанная система стабилизации является модульной и состоит из датчиков, исполнительных устройств, микрокомпьютера с управляющим программным обеспечением, а также устройств, обеспечивающих взаимодействие датчиков и исполнительных устройств с микрокомпьютером. Датчиками системы могут выступать вакуумметры или датчики давления, датчики разрядного тока и напряжения распылителей, оптические датчики регистрации интенсивности спектральных элементов излучения плазмы магнетронного разряда. Исполнительными устройствами системы являются натекатели газов, а также клапана. Количество и тип датчиков и исполнительных устройств определяются исходя из конфигурации технологической установки и требований к проводимым процессам. Управляющее программное обеспечение позволяет гибко настраивать систему (формировать контуры управления, т.е. задавать в соответствие датчики и исполнительные устройства и выбирать алгоритм управления, задавать параметры и режимы работы контуров управления). Таким образом разработанная система является адаптируемой к широкому кругу технологических установок и проводимых процессов. Работоспособность системы была подтверждена при проведении процесса магнетронного осаждения пленки оксида титана. Отклонение уровня сигналов датчиков от требуемых значений при проведении процесса не превышало 3 %, что позволяет получать качественные покрытия.
Film coatings today allow to create large number of diverse structures in electronics, microelectronics, optics, architecture and construction. Leading technologies in this area are magnetron deposition technologies. The problem of magnetron deposition methods is insufficient reproducibility of the composition and properties of coatings, caused by the instability of the parameters of a magnetron discharge in the presence of a reactive gas. There are stabilization systems that make it possible to make reproducible films, but all of them have a number of issues. The aim of the work was to develop a system for stabilizing the reactive magnetron sputtering process for film coating technologies that will eliminate the described shortcomings of existing systems. The developed system of stabilization: automatic and cumulative of sensors, actuators, microcomputer with control software, as well as devices providing interaction of sensors and actuators with a microcomputer. The sensors of the system may be vacuum gauges or pressure sensors, discharge current and voltage sensors of sprays, optical sensors for recording spectral element processes, absorption of a plasma of a magnetron discharge. The actuators of the system are gas flowers, as well as valves. Number and type of sensors and actuators from existing technologies and requirements for ongoing processes. The control software allows to flexibly adjust the system (to form control loops, then to assign sensors and actuators in accordance and to choose control algorithms, to set parameters and operating modes of control loops). Thus, the developed system is adaptable to a wide range of process plants and processes. System operability was confirmed by the process of magnetron deposition of a titanium oxide film. The deviation of the level of the sensor signals from the required values during the process did not exceed 3 %, which allows obtaining high-quality coatings.
621.793.7
общий = БД Техника
общий = МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ
общий = СТАБИЛИЗАЦИИ СИСТЕМЫ
Привязано к:
Выпуск
Гусев, Олег Константинович
Приборы и методы измерений: научно-технический журнал Т.9 N2
Devices and methods of measurements
2018 г.
ISBN отсутствует
ОПИ
Гусев, Олег Константинович
Приборы и методы измерений: научно-технический журнал Т.9 N2
Devices and methods of measurements
2018 г.
ISBN отсутствует
ОПИ