Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Шепелев, С.Н. - Плазмохимическое осаждение тонких пленок в реакторах пониженного давления. Часть 2. Процессы осаж...
Шепелев, С.Н. - Плазмохимическое осаждение тонких пленок в реакторах пониженного давления. Часть 2. Процессы осаж...
Статья
Автор: Шепелев, С.Н.
Обзоры по электронной технике. Серия 2: Полупроводниковые приборы: Плазмохимическое осаждение тонких пленок в реакторах пониженного давления. Часть 2. Процессы осаж...
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Шепелев, С.Н.
Обзоры по электронной технике. Серия 2: Полупроводниковые приборы: Плазмохимическое осаждение тонких пленок в реакторах пониженного давления. Часть 2. Процессы осаж...
б.г.
ISBN отсутствует
На полку
Статья
Шепелев, С.Н.
Плазмохимическое осаждение тонких пленок в реакторах пониженного давления. Часть 2. Процессы осаждения и свойства тонких слоев / С.Н. Шепелев, В.Ю. Васильев, В.П. Попов // Обзоры по электронной технике. Серия 2: Полупроводниковые приборы / кол. авт. "Электроника", институт (Москва). – 1988. – Вып.2. – С. 1-62.
общий = БД Информационные издания
общий = ТОНКОПЛЕНОЧНЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
общий = ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ
общий = ОСАЖДЕНИЕ
общий = РЕАКТОРЫ
Шепелев, С.Н.
Плазмохимическое осаждение тонких пленок в реакторах пониженного давления. Часть 2. Процессы осаждения и свойства тонких слоев / С.Н. Шепелев, В.Ю. Васильев, В.П. Попов // Обзоры по электронной технике. Серия 2: Полупроводниковые приборы / кол. авт. "Электроника", институт (Москва). – 1988. – Вып.2. – С. 1-62.
общий = БД Информационные издания
общий = ТОНКОПЛЕНОЧНЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
общий = ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ
общий = ОСАЖДЕНИЕ
общий = РЕАКТОРЫ
Привязано к:
Выпуск
"Электроника", институт (Москва)
Обзоры по электронной технике. Серия 2: Полупроводниковые приборы Вып.2
ЦНИИ "Электроника", 1988 г.
ISBN отсутствует
ЧЗ ИИ
"Электроника", институт (Москва)
Обзоры по электронной технике. Серия 2: Полупроводниковые приборы Вып.2
ЦНИИ "Электроника", 1988 г.
ISBN отсутствует
ЧЗ ИИ