Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Буть, А.И. - Высокочувствительный интерференционно-голографический метод выявления остаточной клиновидности пр...
Буть, А.И. - Высокочувствительный интерференционно-голографический метод выявления остаточной клиновидности пр...
Статья
Автор: Буть, А.И.
Веснiк Гродзенскага дзяржаўнага унiверсiтэта iмя Янкi Купалы. Серыя 2. Матэматыка. Фiзiка. Iнфарматыка, вылiчальная тэхнiка i кiраванне: Высокочувствительный интерференционно-голографический метод выявления остаточной клиновидности пр...
Highly sensitive holographic interferometry method for detecting residual wedging of transparent substrates of diffractive optics of small size
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Буть, А.И.
Веснiк Гродзенскага дзяржаўнага унiверсiтэта iмя Янкi Купалы. Серыя 2. Матэматыка. Фiзiка. Iнфарматыка, вылiчальная тэхнiка i кiраванне: Высокочувствительный интерференционно-голографический метод выявления остаточной клиновидности пр...
Highly sensitive holographic interferometry method for detecting residual wedging of transparent substrates of diffractive optics of small size
б.г.
ISBN отсутствует
На полку
Статья
Буть, А.И.
Высокочувствительный интерференционно-голографический метод выявления остаточной клиновидности прозрачных подложек дифракционной оптики малых размеров = Highly sensitive holographic interferometry method for detecting residual wedging of transparent substrates of diffractive optics of small size / А. И. Буть, И. А. Лявшук, А. М. Ляликов // Веснiк Гродзенскага дзяржаўнага унiверсiтэта iмя Янкi Купалы. Серыя 2. Матэматыка. Фiзiка. Iнфарматыка, вылiчальная тэхнiка i кiраванне: навуковы часопiс / гал. рэд. Кароль, А.Д.; заснавальнiк Гродзенскi дзяржауны унiверсiтэт iмя Я. Купалы. – 2017. – Т.7 N1. – С. 89-96. – На рус. яз.
Во введении указан объект исследования - дифракционный оптический элемент с малыми поперечными размерами, в частности его прозрачная подложка. Дифракционная структура оптического элемента выполнена в виде крестообразной фазовой решетки, записанной в тонком светочувствительном слое полимера, нанесенном на подложку, которая представляет собой прозрачную плоскопараллельную пластину. Перечислены и проанализированы существующие интерференционные способы оценки остаточной клиновидности прозрачных пластин. Остаточная клиновидность связана с погрешностями механической обработки подложки, а также с нанесением полимерной пленки. Целью работы являлось повышение чувствительности интерференционных способов контроля остаточной клиновидности подложек дифракционных оптических элементов малых поперечных размеров. В основной части рассмотрены особенности применения метода повышения чувствительности измерений при оценке остаточной клиновидности прозрачных подложек дифракционных оптических элементов малых линейных размеров в случае неблагоприятных условий регистрации исходных голограмм. Показано, что дополнительная перезапись исходных голограмм подложки дифракционного оптического элемента позволяет получать нелинейные голограммы c высокоэффективными порядками дифракции. Применение данного приема позволило восстановить интерференционную картину, отображающую остаточную клиновидность подложки дифракционного элемента, с повышением чувствительности измерений в 32 раза. Полученные результаты могут быть использованы для контроля качества дифракционных оптических элементов малых поперечных размеров, используемых в оптоэлектронике и фотонике.
In the introduction the subject of the research is defined. The subject is a diffractive optical element with a small transverse dimensions, in particular its transparent substrate. The diffractive optical element structure is formed as a cruciform phase grating recorded in a photosensitive layer of a thin polymer deposited on a substrate which is a transparent plane-parallel plate. The existing methods for assessing the residual interference wedge of transparent plates are listed and analyzed. Residual wedge is associated with errors of mechanical processing of the substrate as well as with applying the polymer film. The aim of the work is to increase the sensitivity of the interference methods of controlling of residual wedge substrates of diffractive optical elements of small transverse dimension. The main part of the work is devoted to the application features of the measurement method to increase the sensitivity in the evaluation of residual wedging transparent substrates of diffractive optical elements of small linear dimensions in event of adverse conditions of the original registration of holograms. It is shown that additional rewriting of the original substrate hologram of diffractive optical element allows producing nonlinear hologram with high diffraction orders. The use of this technique allows recovering interference pattern displaying the remaining wedge substrate of diffractive element with an increase in sensitivity measurements by 32 times. The results can be used to control the quality of diffractive optical elements with small transverse dimensions used in optoelectronics and photonics.
535.317.1
общий = БД Наука
общий = ОПТИКА
общий = ПОДЛОЖКИ
общий = ДИФРАКЦИОННАЯ ОПТИКА
общий = ОПТИЧЕСКИЙ КОНТРОЛЬ
общий = ГОЛОГРАФИЧЕСКАЯ ИНТЕРФЕРОМЕТРИЯ
Буть, А.И.
Высокочувствительный интерференционно-голографический метод выявления остаточной клиновидности прозрачных подложек дифракционной оптики малых размеров = Highly sensitive holographic interferometry method for detecting residual wedging of transparent substrates of diffractive optics of small size / А. И. Буть, И. А. Лявшук, А. М. Ляликов // Веснiк Гродзенскага дзяржаўнага унiверсiтэта iмя Янкi Купалы. Серыя 2. Матэматыка. Фiзiка. Iнфарматыка, вылiчальная тэхнiка i кiраванне: навуковы часопiс / гал. рэд. Кароль, А.Д.; заснавальнiк Гродзенскi дзяржауны унiверсiтэт iмя Я. Купалы. – 2017. – Т.7 N1. – С. 89-96. – На рус. яз.
Во введении указан объект исследования - дифракционный оптический элемент с малыми поперечными размерами, в частности его прозрачная подложка. Дифракционная структура оптического элемента выполнена в виде крестообразной фазовой решетки, записанной в тонком светочувствительном слое полимера, нанесенном на подложку, которая представляет собой прозрачную плоскопараллельную пластину. Перечислены и проанализированы существующие интерференционные способы оценки остаточной клиновидности прозрачных пластин. Остаточная клиновидность связана с погрешностями механической обработки подложки, а также с нанесением полимерной пленки. Целью работы являлось повышение чувствительности интерференционных способов контроля остаточной клиновидности подложек дифракционных оптических элементов малых поперечных размеров. В основной части рассмотрены особенности применения метода повышения чувствительности измерений при оценке остаточной клиновидности прозрачных подложек дифракционных оптических элементов малых линейных размеров в случае неблагоприятных условий регистрации исходных голограмм. Показано, что дополнительная перезапись исходных голограмм подложки дифракционного оптического элемента позволяет получать нелинейные голограммы c высокоэффективными порядками дифракции. Применение данного приема позволило восстановить интерференционную картину, отображающую остаточную клиновидность подложки дифракционного элемента, с повышением чувствительности измерений в 32 раза. Полученные результаты могут быть использованы для контроля качества дифракционных оптических элементов малых поперечных размеров, используемых в оптоэлектронике и фотонике.
In the introduction the subject of the research is defined. The subject is a diffractive optical element with a small transverse dimensions, in particular its transparent substrate. The diffractive optical element structure is formed as a cruciform phase grating recorded in a photosensitive layer of a thin polymer deposited on a substrate which is a transparent plane-parallel plate. The existing methods for assessing the residual interference wedge of transparent plates are listed and analyzed. Residual wedge is associated with errors of mechanical processing of the substrate as well as with applying the polymer film. The aim of the work is to increase the sensitivity of the interference methods of controlling of residual wedge substrates of diffractive optical elements of small transverse dimension. The main part of the work is devoted to the application features of the measurement method to increase the sensitivity in the evaluation of residual wedging transparent substrates of diffractive optical elements of small linear dimensions in event of adverse conditions of the original registration of holograms. It is shown that additional rewriting of the original substrate hologram of diffractive optical element allows producing nonlinear hologram with high diffraction orders. The use of this technique allows recovering interference pattern displaying the remaining wedge substrate of diffractive element with an increase in sensitivity measurements by 32 times. The results can be used to control the quality of diffractive optical elements with small transverse dimensions used in optoelectronics and photonics.
535.317.1
общий = БД Наука
общий = ОПТИКА
общий = ПОДЛОЖКИ
общий = ДИФРАКЦИОННАЯ ОПТИКА
общий = ОПТИЧЕСКИЙ КОНТРОЛЬ
общий = ГОЛОГРАФИЧЕСКАЯ ИНТЕРФЕРОМЕТРИЯ
