Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Шепелев, С.Н. - Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления
Шепелев, С.Н. - Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления
Многотомник
Автор: Шепелев, С.Н.
Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления
Серия: Обзоры по электронной технике
Издательство: ЦНИИ "Электроника", 1986 г.
ISBN отсутствует
Автор: Шепелев, С.Н.
Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления
Серия: Обзоры по электронной технике
Издательство: ЦНИИ "Электроника", 1986 г.
ISBN отсутствует
На полку
Многотомник
Шепелев, С.Н.
Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления / С.Н. Шепелев, В.Ю. Васильев, В.П. Попов. – Москва: ЦНИИ "Электроника", 1986. – (Обзоры по электронной технике. Серия 2, Полупроводниковые приборы) .
Шепелев, С.Н.
Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления / С.Н. Шепелев, В.Ю. Васильев, В.П. Попов. – Москва: ЦНИИ "Электроника", 1986. – (Обзоры по электронной технике. Серия 2, Полупроводниковые приборы) .
Связанные описания:
Книга
Шепелев, С.Н.
Ч.1. : Оборудование для осаждения слоев: (по материалам отечественной и зарубежной печати за 1975-1985 гг.)
ЦНИИ "Электроника", 1986 г.
ISBN отсутствует
Шепелев, С.Н.
Ч.1. : Оборудование для осаждения слоев: (по материалам отечественной и зарубежной печати за 1975-1985 гг.)
ЦНИИ "Электроника", 1986 г.
ISBN отсутствует