Электронный каталог НБ БНТУ

Многотомник

Шепелев, С.Н.
Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления / С.Н. Шепелев, В.Ю. Васильев, В.П. Попов. – Москва: ЦНИИ "Электроника", 1986. – (Обзоры по электронной технике. Серия 2, Полупроводниковые приборы) .
Книга
621.3 Ш48

Шепелев, С.Н.
Ч.1 : Оборудование для осаждения слоев: (по материалам отечественной и зарубежной печати за 1975-1985 гг.) / С.Н. Шепелев, В.Ю. Васильев, В.П. Попов. – Москва: ЦНИИ "Электроника", 1986. – 53 с.: ил. – (Обзоры по электронной технике; вып.7(1242). Серия 2, Полупроводниковые приборы) . - .: 0.62.

621.382.049.77.002:621.793.3(048.8)

общий = ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ
общий = ОСАЖДЕНИЕ
общий = ОБОРУДОВАНИЕ