Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Влияние технологических примесей на электрофизические параметры МОП-транзистора
Влияние технологических примесей на электрофизические параметры МОП-транзистора
Статья
Автор:
Весцi Нацыянальнай акадэмii навук Беларусi.Серыя фiзiка-тэхнiчных навук: Влияние технологических примесей на электрофизические параметры МОП-транзистора
Influence of technological inpurities on electrical parameters of MOS transistor
б.г.
ISBN отсутствует
Автор:
Весцi Нацыянальнай акадэмii навук Беларусi.Серыя фiзiка-тэхнiчных навук: Влияние технологических примесей на электрофизические параметры МОП-транзистора
Influence of technological inpurities on electrical parameters of MOS transistor
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Влияние технологических примесей на электрофизические параметры МОП-транзистора = Influence of technological inpurities on electrical parameters of MOS transistor / А. Н. Петлицкий [и др.] // Весцi Нацыянальнай акадэмii навук Беларусi.Серыя фiзiка-тэхнiчных навук = Известия Национальной академии наук Беларуси. Серия физико-технических наук / учредитель Нацыянальная акадэмiя навук Беларусi; гал. рэд. П.А. Вiцязь. – 2014. – N4. – С. 14-17. – Режим доступа : http://rep.bntu.by/handle/data/49430. – На рус. яз.
Исследованы ВАХ МОП-транзисторов, созданных по эпитаксиально-планарной технологии в различное время с использованием идентичных технологических материалов по аналогичным технологическим маршрутам. Установлено, что электрофизические характеристики МОП-транзисторов существенным образом зависят от качества подзатворного диэлектрика. Наличие дополнительного встроенного заряда в диэлектрике, а также быстрых поверхностных состояний на границе раздела Si-SiO2 приводят как к увеличению порогового напряжения, так и к снижению тока и напряжения насыщения, крутизны характеристики МОП- транзистора в линейной области и в области насыщения, проводимости структуры в линейной области. Возрастают также токи утечки затвора. Показано, что причиной ухудшения электрофизических параметров МОП-транзисторов является загрязнение материала технологическими примесями (Fe, Cl, K, Ca, Ti, Cr, Cu, Zn и др.) во время производственного процесса. Источниками загрязнений могут служить как детали и узлы технологических установок, так и используемые материалы и реактивы.
It is shown that the quality of gate dielectric has a determinative impact on electrical physical parameters of MOS transistors. Contamination of material by technological impurities during the manufacturing process is the reason for the deterioration of electrical physical parameters of MOS transistors. Sources of contamination can be components of technological equipments, as well as the materials and reagents.
621.382.3
общий = БД Труды научных работников БНТУ : 2014г.
труды сотрудников БНТУ = Приборостроительный факультет : кафедра "Экспериментальная и теоретическая физика"
труды сотрудников БНТУ = Электроника. Радиоэлектроника (труды)
общий = ПОЛЕВЫЕ ТРАНЗИСТОРЫ С ИЗОЛИРОВАННЫМ ЗАТВОРОМ
Влияние технологических примесей на электрофизические параметры МОП-транзистора = Influence of technological inpurities on electrical parameters of MOS transistor / А. Н. Петлицкий [и др.] // Весцi Нацыянальнай акадэмii навук Беларусi.Серыя фiзiка-тэхнiчных навук = Известия Национальной академии наук Беларуси. Серия физико-технических наук / учредитель Нацыянальная акадэмiя навук Беларусi; гал. рэд. П.А. Вiцязь. – 2014. – N4. – С. 14-17. – Режим доступа : http://rep.bntu.by/handle/data/49430. – На рус. яз.
Исследованы ВАХ МОП-транзисторов, созданных по эпитаксиально-планарной технологии в различное время с использованием идентичных технологических материалов по аналогичным технологическим маршрутам. Установлено, что электрофизические характеристики МОП-транзисторов существенным образом зависят от качества подзатворного диэлектрика. Наличие дополнительного встроенного заряда в диэлектрике, а также быстрых поверхностных состояний на границе раздела Si-SiO2 приводят как к увеличению порогового напряжения, так и к снижению тока и напряжения насыщения, крутизны характеристики МОП- транзистора в линейной области и в области насыщения, проводимости структуры в линейной области. Возрастают также токи утечки затвора. Показано, что причиной ухудшения электрофизических параметров МОП-транзисторов является загрязнение материала технологическими примесями (Fe, Cl, K, Ca, Ti, Cr, Cu, Zn и др.) во время производственного процесса. Источниками загрязнений могут служить как детали и узлы технологических установок, так и используемые материалы и реактивы.
It is shown that the quality of gate dielectric has a determinative impact on electrical physical parameters of MOS transistors. Contamination of material by technological impurities during the manufacturing process is the reason for the deterioration of electrical physical parameters of MOS transistors. Sources of contamination can be components of technological equipments, as well as the materials and reagents.
621.382.3
общий = БД Труды научных работников БНТУ : 2014г.
труды сотрудников БНТУ = Приборостроительный факультет : кафедра "Экспериментальная и теоретическая физика"
труды сотрудников БНТУ = Электроника. Радиоэлектроника (труды)
общий = ПОЛЕВЫЕ ТРАНЗИСТОРЫ С ИЗОЛИРОВАННЫМ ЗАТВОРОМ