Электронный каталог НБ БНТУ

Статья

Бельский, А.Б.
Перспективы развития оптических систем для нанолитографии / А.Б. Бельский, М.А. Ган, И.А. Миронов, Р.П. Сейсян // Оптический журнал: научно-технический журнал / гл. ред. А.С. Тибилов; учредитель Государственный оптический институт им. С.И. Вавилова, Санкт-Петербургский государственный университет информационных технологий, механики и оптики, Оптическое общество им. Д.С. Рождественского. – 2009. – Т.76 N8. – С. 59-69. – Режим доступа : http:\Libsrv24.library.bntu.bytextScanBelskij_ABdoc1.pdf.

Рассмотрены принципы создания высокоразрешающих проекционных фотолитографических объективов и требования к оптическим материалам для них. Показано, что одним из наиболее перспективных материалов для создания объективов для фотолитографии на длинах волн 248 и 193 нм является флюорит.

778.14-022.532

общий = ФОТОЛИТОГРАФИЯ
общий = ОПТИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ
общий = ОПТИКА
общий = НАНОМАТЕРИАЛЫ
общий = ФТОРИД КАЛЬЦИЯ
общий = МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
общий = НАНОТЕХНОЛОГИИ