Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Книги в рубрике:
Рубрики
--> КРЕМНИЕВЫЕ ПЛАСТИНЫ
Печать списка
--> КРЕМНИЕВЫЕ ПЛАСТИНЫ
Рубрика
- Название:
- КРЕМНИЕВЫЕ ПЛАСТИНЫ
Печать списка
Связанные описания:
Статья
Lapitskaya, V.A.
Influence of Temperature from 20 to 100 °C on Specific Surface Energy and Fracture Toughness of S...
Влияние температуры от 20 до 100 °С на удельную поверхностную энергию и вязкость разрушения пластин кремния
б.г.
ISBN отсутствует
Lapitskaya, V.A.
Influence of Temperature from 20 to 100 °C on Specific Surface Energy and Fracture Toughness of S...
Влияние температуры от 20 до 100 °С на удельную поверхностную энергию и вязкость разрушения пластин кремния
б.г.
ISBN отсутствует
На полку
Статья
Spectral Ellipsometry as a Method of Investigation of Influence of Rapid Thermal Processing of Si...
Спектральная эллипсометрия как метод изучения влияния быстрой термообработки кремниевых пластин на их оптические характеристики
б.г.
ISBN отсутствует
Spectral Ellipsometry as a Method of Investigation of Influence of Rapid Thermal Processing of Si...
Спектральная эллипсометрия как метод изучения влияния быстрой термообработки кремниевых пластин на их оптические характеристики
б.г.
ISBN отсутствует
Книга
Пилипенко, В.А.
Быстрые термообработки в технологии СБИС
Издательство БГУ, 2004 г.
ISBN 985-476-251-3
Пилипенко, В.А.
Быстрые термообработки в технологии СБИС
Издательство БГУ, 2004 г.
ISBN 985-476-251-3
Заказать 
Статья
Авсиевич, Андрей Михайлович
Влияние радиусов сопряжений элементов мембранных МЭМС-систем на собственные колебания
The effect of the coupling radii of the elements of membrane MEMS systems on their own oscillations
б.г.
ISBN отсутствует
Авсиевич, Андрей Михайлович
Влияние радиусов сопряжений элементов мембранных МЭМС-систем на собственные колебания
The effect of the coupling radii of the elements of membrane MEMS systems on their own oscillations
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Солодуха, В.А.
Измерение глубины нарушенного слоя на поверхности кремниевых пластин методом оже-спектроскопии
Depth Measurement of Disrupted Layer on Silicon Wafer Surface using Auger Spectroscopy Method
б.г.
ISBN отсутствует
Солодуха, В.А.
Измерение глубины нарушенного слоя на поверхности кремниевых пластин методом оже-спектроскопии
Depth Measurement of Disrupted Layer on Silicon Wafer Surface using Auger Spectroscopy Method
б.г.
ISBN отсутствует
Книга
Попков, В.И.
Методы оперативного контроля физико-механических свойств полупроводниковых материалов: [монография]
Издательство БГТУ, 2008 г.
ISBN 5-89838-399-9
Попков, В.И.
Методы оперативного контроля физико-механических свойств полупроводниковых материалов: [монография]
Издательство БГТУ, 2008 г.
ISBN 5-89838-399-9
Книга (аналит. описание)
Францкевич, Анатолий Викторович
Модификация поверхности пластин кремния в результате обработки в DC плазме водорода: исследование...
Surface modification of silicon wafers by hydrogen DC plasma treatment: a raman study
б.г.
ISBN отсутствует
Францкевич, Анатолий Викторович
Модификация поверхности пластин кремния в результате обработки в DC плазме водорода: исследование...
Surface modification of silicon wafers by hydrogen DC plasma treatment: a raman study
б.г.
ISBN отсутствует
Книга (аналит. описание)
Прочностные свойства пленок фоторезиста AZ nLOF 5510
Strength properties of AZ nLOF 5510 photoresist films
б.г.
ISBN отсутствует
Прочностные свойства пленок фоторезиста AZ nLOF 5510
Strength properties of AZ nLOF 5510 photoresist films
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Бринкевич, Д.И.
Склерометрический метод измерения микротвердости пленок фоторезиста на кремнии
Measurement of microhardness of photoresist films on silicon by the scratching method
б.г.
ISBN отсутствует
Бринкевич, Д.И.
Склерометрический метод измерения микротвердости пленок фоторезиста на кремнии
Measurement of microhardness of photoresist films on silicon by the scratching method
б.г.
ISBN отсутствует
Книга (аналит. описание)
Спектры поглощения фоторезистов для обратной литографии
Absorption spectra of photoresists for reverse lithography
б.г.
ISBN отсутствует
Спектры поглощения фоторезистов для обратной литографии
Absorption spectra of photoresists for reverse lithography
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Структура планарной поверхности кремниевых пластин до и после быстрой термообработки
Structure of Silicon Wafers Planar Surface before and after Rapid Thermal Treatment
б.г.
ISBN отсутствует
Структура планарной поверхности кремниевых пластин до и после быстрой термообработки
Structure of Silicon Wafers Planar Surface before and after Rapid Thermal Treatment
б.г.
ISBN отсутствует